Главная > Разное > Тонкопленочные солнечные элементы
<< Предыдущий параграф
Следующий параграф >>
<< Предыдущий параграф Следующий параграф >>
Макеты страниц

2.2.1.5 Вакуумное оборудование

Для осуществления вакуумного испарения необходима система с определенным уровнем вакуума, снабженная аппаратурой для анализа остаточных газов. Вакуумные системы на основе диффузионного насоса и вспомогательного форвакуумного насоса, обеспечивающие давление Па, по-прежнему наиболее часто используются в технологических комплексах для создания тонких пленок в основном благодаря небольшой стоимости, простоте и высокой скорости откачки. При использовании в диффузионном насосе специальных масел (например, полифенилового эфира), криогенного отражателя и

(см. скан)

(см. скан)

(см. скан)

при выполнении вакуумного оборудования только из металла легко достигается сверхвысокий вакуум с давлением в диапазоне Па. Другая стандартная сверхвысоковакуумная система основана на применении ионно-распылительного насоса в сочетании с сорбционным и вспомогательным титановым сублимационным насосами. Криогенные насосы на жидком гелии, работающие по принципу замкнутого цикла, относятся к новым эффективным, но более дорогостоящим системам сверхвысокого вакуума. Следует отметить, что любая вакуумная система имеет индивидуальные особенности, связанные с характеристиками процесса откачки, уровнем вакуума и составом остаточных газов. При этом особенности каждой системы по-своему влияют на процесс конденсации тонких пленок (см. [2]).

Помимо испарителя вакуумная система должна быть снабжена многочисленными дополнительными устройствами. К ним относятся: заслонки, держатели подложек, планетарная система (для равномерного осаждения пленок большой площади), системы регулирования и контроля скорости осаждения и толщины пленок. Дополнительное оборудование должно изготовляться из материалов, совместимых со сверхвысоковакуумной технологией, с учетом их способности к газоотделению и химическому взаимодействию с испаряемыми веществами. Контроль и управление скоростью осаждения пленок обычно осуществляются при помощи кристаллического кварцевого резонатора, ионизационного датчика или соответствующего масс-спектрометра. Толщину пленки определяют путем интегрирования показаний датчика скорости осаждения и другими методами, например применяя оптический датчик (при осаждении неметаллических пленок). В идеальном случае систему вакуумного осаждения следует оснастить аппаратурой для анализа структуры и состава пленок (см. раздел 2.2.2.2). Ввиду того что вспомогательное оборудование играет важную роль в получении пленок с. требуемыми свойствами, необходимо детальное знание этого оборудования. Мы настоятельно рекомендуем читателям обращаться к работам [1-4], где данные вопросы рассмотрены более подробно.

<< Предыдущий параграф Следующий параграф >>
Оглавление